구상 실리카 분말

고구상도·저점도·저열팽창의 반도체·EMC용 프리미엄 구상 실리카

구상 실리카 분말은 화염 용융 공정을 통해 완전한 구(球) 형태로 성형된 고순도 무정형 SiO₂ 분말입니다. 낮은 수지 점도, 우수한 유동성, 낮은 열팽창계수를 바탕으로 반도체 EMC(Epoxy Molding Compound), CCL(Copper Clad Laminate), 언더필, 봉지재 등 첨단 전자 소재의 핵심 필러로 사용됩니다. 일반 구상(SN-QG)과 저방사선(Low-α) 구상(SN-QG-L) 2종 시리즈를 기준으로 고객 맞춤 생산 공급합니다.

주요 특징

  • 🔵 고구상도 — 화염 용융/금속 실리콘 폭연/화학 합성 공법으로 완전 구상에 가까운 입자 성형
  • 🧪 고순도 SiO₂ 99.0 ~ 99.95% — 저 Na⁺·Cl⁻·E/C 관리로 반도체 EMC 신뢰성 확보
  • 🌡️ 저열팽창·저열전도 — 실리콘 웨이퍼와 열팽창 정합성 우수 — 크랙·박리 최소화
  • ☢️ 저방사선 등급(SN-QG-L) — 저 방사성 원소 함량 — 첨단 메모리 소프트 에러 방지
  • ⚙️ 고충전율·저응력 — 구상·저비표면적으로 고충전 배합 시에도 저점도·저응력 유지
  • 📐 정밀 입도 관리 — D50 0.1 ~ 40 µm 맞춤 공급 (SN-QG), D50 1 ~ 30 µm (SN-QG-L)

기술 사양

항목값
외관백색 구상 분말
SiO₂ 순도99.0 ~ 99.95 %
형상구상(Spherical)
PH5 ~ 8
평균 입도 D500.1 ~ 40 µm (SN-QG) / 1 ~ 30 µm (SN-QG-L)
특성저 Na⁺·Cl⁻·E/C · 고구상도 · 저응력
포장10 / 20 kg 지대 · OEM
원산지중국 (China)

제품 라인업

주요 응용 분야

반도체 EMC · CCL / PCB · 언더필 / 봉지재 · 고열전도 소재

입도·순도·표면처리·포장 등 고객 요구 사양에 맞춘 맞춤 생산·공급이 가능합니다. 샘플·TDS·견적은 문의해 주세요.